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　　防汙鍍膜設備的原理主要包括磁控濺射和反應濺射等工藝‌。磁控濺射係統在陰極靶材背後放置強力磁鐵，真空室充入惰性氣體(如氬氣)，在高壓作用下，氬原子電離成氬離子和電子，電子在磁場中偏轉，與氬原子碰撞產生更多的氬離子。

　　這些氬離子在高壓電場作用下轟擊靶材，使靶材原子逸出並沉積在基片上形成薄膜‌。

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